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深圳市諾林電子科技有限公司

Shenzhen Nuolin Electronic Technology Co.,ltd

LED手動型曝光機的分類特性

作者:諾林電子     瀏覽:2974     發表時間:2017-09-11 18:56:00 來源:原創

LED手動型曝光機?是指通過開啟燈光發出UVA波長的紫外線,將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到涂有感光物質的表面上的設備.

[LED手動型曝光機]是指通過開啟燈光發出UVA波長的紫外線,將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到涂有感光物質的表面上的設備.曝光機即電子束曝光機是集電子光學,電氣,機械,真空,計算機技術等于一體的復雜的半導體加工設備.廣泛應用于半導體,微電子,生物器件和納米科技領.


 

LED曝光機一般根據操作的簡便性分為三種,手動,半自動,全自動

 

A自動: 指的是 從基板的上載下載,曝光時長和循環都是通過程序控制,自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要.

 

B手動:指的是對準的調節方式,是通過手調旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準,對準精度可想而知不高了;

 

C半自動:指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧;

[LED手動型曝光機]對光源系統的要求

a.有適當的波長.波長越短,可曝光的特征尺寸就越小;波長越短,就表示光刻的刀鋒越鋒利,刻蝕對于精度控制要求越高,因為衍射現象會更嚴重.

 

b.曝光能量必須均勻地分布在曝光區.一般采用光的均勻度 或者叫不均勻度光的平行度等概念來衡量光是否均勻分布,常用的紫外光光源是高壓弧光燈(高壓汞燈),高壓汞燈有許多尖銳的光譜線,經過濾光后使用其中的g 線(436 nm)或i 線(365 nm).

 

c.有足夠的能量.能量越大,曝光時間就越短;


 

對于波長更短的深紫外光光源,可以使用準分子激光.例如KrF 準分子激光(248 nm),ArF 準分子激光(193 nm)和F2準分子激光(157 nm)等.

曝光系統的功能主要有:平滑衍射效應,實現均勻照明,濾光和冷光處理,實現強光照明和光強調節等.




 

[LED手動型曝光機]性能指標:

手動型曝光機的主要性能指標有:支持基片的尺寸范圍,分辨率,對準精度,曝光方式,光源波長,光強均勻性,生產效率等.


 

對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度.曝光方式分為接觸接近式,投影式和直寫式.

曝光光源波長分為紫外,深紫外和極紫外區域,光源有汞燈,準分子激光器等.


 

分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式.光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源,光刻系統,光刻膠和工藝等各方面的限制.





 

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